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電容析去離子系統 

概述： MCDI技術革新 1、 現有電容吸附法沒有離子膜，水流直接沖刷碳電極，碳顆粒掉落的情況會持續(xù)發(fā)生；而MCDI由于膜電極中離子膜的遮擋和包覆，水流不直接沖刷碳
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MCDI技術革新

1、       現有電容吸附法沒有離子膜，水流直接沖刷碳電極，碳顆粒掉落的情況會持續(xù)發(fā)生；而MCDI由于膜電極中離子膜的遮擋和包覆，水流不直接沖刷碳電極，而是從離子膜之間流過，加上我們特殊的碳電極加工方法，長期使用造成碳電極沖刷掉落的情況不會出現。

2、       當反接電極時，因為離子隔膜的作用，使得從電極上脫附的離子，只能回到溶液或水中，無法吸附到對面電極上，從而使電極得到充分的清洗，再開始下一次吸附，提高了離子去除率和裝置的運行效率；傳統的電容吸附去離子技術由于沒有離子膜隔離，導致脫附過程中離子再次吸附到對面極板上，嚴重影響脫附效果，導致處理效率降低。

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